等离子体耦合膜反应器，等离子体耦合膜反应器的特点

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等离子体矩管的结构和工作原理是等离子体炬管通过活性粒子在纤维表面形成自由基和极性基团，提高了纤维表面的自由能和润湿性。

旋转管式炉由两部分组成上部炉膛中的炉体管可翻转360°，下部为电控部分，工作原理就是热电偶将炉膛温度转换为信号传给温控仪控制温度，旋转炉膛是独立电机带动炉膛旋转。

通过燃烧后辐射段的火焰和高温烟气对水冷壁的锅炉给水进行加热，使锅炉给水变成饱和水而进入汽包进行气水分离。

管式PECVD是一种低温下高质量淀积减反射膜装置，其构造大体与扩散炉相当，主要有推舟机构、反应炉管、气路系统和真空系统，但技术复杂得多。可控对象除温度和气氛外还有等离子场、压力等。

低压化学汽相淀积图2是低压化学汽相淀积装置原理，采用管式电阻炉加热，在炉内以直立式密集装片。片的平面垂直于气流方向。

等离子的原理主要有2个变化：物理变化：清除产品表面粉尘和灰尘，起到洁净的作用，但又不像洗洁精一样清除油污和固化污渍。

在粘合和油漆应用时得到了优化。在同样效果下，应用等离子体处理表面可以得到非常薄的高张力涂层表面，有利于粘结、涂覆和印刷。不需其他机器、化学处理等强烈作用成份来增加粘合性。

等离子清洗机清洗原理是，通过利用等离子体的“活性”组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。

干法去胶主要是等离子去胶，通常采用等离子体氧化或分解等方式去除光刻胶。等离子去胶机，是广泛应用于去胶的设备。去胶机通过氧原子和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶。

PECVD原理 PECVD 系统是一组利用平行板镀膜舟和高频等离子激发器的系列发生器。在低压和升温的情况下，等离子发生器直接装在镀膜板中间发生反应。所用的活性气体为硅烷SiH4和氨NH3。这些气体作用于存储在硅片上的氮化硅。

管P的工作原理：通过高频发电使待反应的气体（SIH4，NH3）在等离子状态下剧烈反应，生成SIN膜在电池片的表面。作用：增强电池片对太阳光线的吸收，减少反射从而一定程度上提高了电池片转换效率。

原理：太阳光照在半导体p-n结上，形成新的空穴-电子对，在p-n结内建电场的作用下，光生空穴流向p区，光生电子流向n区，接通电路后就产生电流。这就是光电效应太阳能电池的工作原理。

其中等离子增强化学气相沉积法（PECVD）是已被普遍采用的方法，在PECVD沉积非晶硅的方法中，PECVD的原料气一般采用SiH4，和H2，制备叠层电池时用SiH4，和GeH4，加入B2H6，和PH5可同时实现掺杂。

等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

紫外辐射破坏污染物，由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米，所以污染层不应该太厚。指纹也适用。氧化物去除这种处理包括使用氢或氢和氩的混合物。有时也采用两步流程。

通俗的说，等离子体就是电离的气体。等离子体的概念最早由美国著名的科学家Langmuir在1920年提出。比较严格的定义是：等离子体是由电子、阳离子和中性粒子组成的整体上呈电中性的物质集合。

根据Mie理论，当颗粒尺寸较小时（2R20nm），粒子可被近似看为处于同相位均匀电场中，表现为简单的偶极子共振模式。大一点的可以看做四极子或八极子或更高阶多级子振动模式。表面等离子体子共振是一种物理光学现象。

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