大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于射流反应器适用于哪些领域的问题，于是小编就整理了1个相关介绍射流反应器适用于哪些领域的解答，让我们一起看看吧。

1. cvd金刚石的主要制备方法？

1、cvd金刚石的主要制备方法？

一、热丝CVD法

　　热丝CVD法是将氢气和甲烷、乙炔等碳氢化合物按一定比例混合通入反应腔体内，流经电加热至2000℃以上的热丝，在其表面和附近被高温分解成原子氢和多种碳氢基团，随后发生复杂的吸附与解吸附反应，之后在合适温度(700~ 1000℃)的基底表面成核、生长，形成金刚石涂层。

　　1、优点

　　热丝法的优点在于其制备成本低、装置简单、易实现大面积沉积、工艺控制性好等，因此热丝CVD是目前应用范围居于首位的金刚石涂层制备技术。

　　2、缺点

　　热丝法的缺点是合成速度较慢，约为1～2μm/h，气体离化率较低，金刚石膜的生长质量不是很高，且容易带来金属污染。

　　二、微波等离子体CVD

　　微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是将一定直径的石英管或不锈钢谐振腔作为反应腔，微波从波导管经过，进入反应腔内，会产生一个反应很强的交变电场，气体在交变电场的激励下被激发形成等离子体，氢气和甲烷受到激发形成具有很高活性的化学活性基团，扩散至合适的基底表面后，沉积出金刚石涂层。

　　1、优点

　　微波等离子体是一种无电极放电的等离子体激发方式，即它产生的等离子体很纯净，可避免电极和反应器壁带来的污染，微波等离子体能量密度及电子温度相当高，可得到很高的原子氢浓度，而且微波放电特别稳定，因此该法沉积获得的金刚石涂层质量相对较高。

　　2、缺点

　　但是该沉积法突出的缺点是制备效率低，设备价格昂贵，制备成本偏高，不易扩大MPCVD金刚石膜的沉积面积。



　　三、直流电弧等离子体喷射CVD

　　该制备法是在电路正负两极间通入一定的直流电压，在正负两极间流动的气体被放电击穿，从而点燃电弧。电弧将气体迅速加热至特别高的温度，气体急剧膨胀，从喷口高速喷射出高温的等离子体射流。基底必须通过水来强制冷却，一般放在等离子体炬的下方。通常都将氢气、氩气和甲烷混合作为沉积的原料气体。其中氢气和甲烷是金刚石涂层沉积常用的原料气体，氩气则是用来点燃电弧并维持电弧的放电。

　　1、优点

　　这是一种典型的高速沉积方法，保持着迄今为止的快速沉积速率930 μm/h。等离子体的离化很充分，能提供非常高的原子氢浓度，因此能够兼顾沉积速率和金刚石涂层的质量，被认为是工业化应用前景非常光明的金刚石膜制备技术。

　　2、缺点

　　但是该制备法对于气体和电力的消耗量非常大，导致制备成本高，需通过气体循环和减少电力消耗降低成本，才能在市场上更具竞争力。

到此，以上就是小编对于射流反应器适用于哪些领域的问题就介绍到这了，希望介绍关于射流反应器适用于哪些领域的1点解答对大家有用。